特許
J-GLOBAL ID：200903021684481480
電磁波プラズマ発生装置、その発生方法、その表面処理装置、およびその表面処理方法。
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-239533
公開番号（公開出願番号）：特開2009-070735
出願日： 2007年09月14日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】小さい負バイアス電圧値で電磁波プラズマを発生させ、パイプのような高アスペクト比の内部形状を有する被処理部材の内部に前記電磁波プラズマを均一に伝搬させる電磁波プラズマ発生方法およびその発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】ガス供給部40、ガス排出部41および電磁波供給部22が備えられたチャンバー10と、被処理部材3にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段30とを具備しており、被処理部材3の中空部5にプラズマを発生させる電磁波プラズマ発生装置であって、前記電磁波供給部22が前記チャンバー10内を望む位置に配置され、かつ前記被処理部材3が前記チャンバー10内に配置されるとともに、前記チャンバー10内で発生されるプラズマ生成領域を前記中空部5内に誘導するプラズマ誘導手段1が少なくとも1つ以上備えられている電磁波プラズマ発生装置101を用いることにより、上記課題を解決できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガス供給部、ガス排出部および電磁波供給部が備えられたチャンバーと、被処理部材にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段とを具備しており、少なくとも一つの開口部を有する中空部を有する被処理部材の中空部の内部にプラズマを発生させる電磁波プラズマ発生装置であって、
前記電磁波供給部が前記チャンバー内を望む位置に配置され、かつ前記被処理部材が前記チャンバー内に配置されるとともに、
前記チャンバー内で発生されるプラズマ生成領域を前記中空部内に誘導するプラズマ誘導手段が少なくとも1つ以上備えられていることを特徴とする電磁波プラズマ発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030AA14
, 4K030BA28
, 4K030BA44
, 4K030CA02
, 4K030CA15
, 4K030DA02
, 4K030FA01
, 4K030JA01
, 4K030KA20
, 4K030KA30
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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