基板の洗浄方法および洗浄装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-092053
公開番号（公開出願番号）：特開2002-282807
出願日： 2001年03月28日
公開日（公表日）： 2002年10月02日
要約：

【要約】【課題】洗浄液を用いた洗浄装置において、洗浄後の洗浄液もしくはリンス液の残査に起因する次工程での密着力不足を、生産性・経済性を損なうことなく解消する基板の洗浄方法および装置を適用する。【解決手段】基板を洗浄する洗浄装置において、洗浄液を用いて洗浄をおこなう第1の洗浄工程と、大気圧化で放電したプラズマに前記基板を曝露して洗浄をおこなう第2の洗浄工程とを含むことを特徴とする基板の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

基板の洗浄方法において、洗浄液を用いて洗浄をおこなう第1の洗浄工程と、大気圧化で放電したプラズマに前記基板を曝露して洗浄をおこなう第2の洗浄工程とを含むことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (10件)：

B08B 7/00 , B08B 3/02 , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1335 505 , G09F 9/00 338 , H01L 21/304 641 , H01L 21/304 645 , H01L 21/304 , H01L 21/304 651

FI (10件)：

B08B 7/00 , B08B 3/02 C , G02B 5/20 101 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1335 505 , G09F 9/00 338 , H01L 21/304 641 , H01L 21/304 645 C , H01L 21/304 645 D , H01L 21/304 651 G

Fターム (44件)：

2H048BA00 , 2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BB02 , 2H048BB37 , 2H048BB42 , 2H088FA21 , 2H088FA25 , 2H088FA30 , 2H088HA01 , 2H088HA02 , 2H088HA04 , 2H088HA12 , 2H088MA20 , 2H091FA02Y , 2H091FB02 , 2H091GA02 , 2H091GA16 , 2H091LA12 , 2H091LA30 , 3B116AA02 , 3B116AA46 , 3B116AB14 , 3B116BB21 , 3B116BB82 , 3B116BC01 , 3B116CC01 , 3B201AA02 , 3B201AA46 , 3B201AB14 , 3B201BB21 , 3B201BB82 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BC01 , 3B201CC01 , 5G435AA04 , 5G435AA17 , 5G435CC12 , 5G435GG12 , 5G435KK05 , 5G435KK07

引用特許：

審査官引用 (8件)

基板の洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-350772 出願人：島田理化工業株式会社
表面処理方法及び装置、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに液晶パネル及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-040287 出願人：セイコーエプソン株式会社
特開平3-043701

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