特許
J-GLOBAL ID:200903022138450766
半導体レーザ構造
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 一男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-241997
公開番号(公開出願番号):特開2001-068790
出願日: 1999年08月27日
公開日(公表日): 2001年03月16日
要約:
【要約】【課題】バンドオフセット△Ecが大きく取れる構成を有して温度特性の良い半導体レーザ構造である。【解決手段】半導体レーザ構造は、活性層14とバリア層15を有し、活性層14とバリア層15を挟むクラッド層12、17を有する。InPとは格子整合しない格子定数を有するInAlAs12、17を層中に有している。
請求項(抜粋):
活性層とバリア層を有し、該活性層とバリア層を挟むクラッド層を有する半導体レーザ構造であって、InPとは格子整合しない格子定数を有するInAlAsを層中に有していることを特徴とする半導体レーザ構造。
Fターム (10件):
5F073AA74
, 5F073BA02
, 5F073CA06
, 5F073CA07
, 5F073CA12
, 5F073CA13
, 5F073CA14
, 5F073CA15
, 5F073CA17
, 5F073EA29
引用特許:
審査官引用 (5件)
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-194779
出願人:富士通株式会社
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長波長帯面発光型半導体レーザ及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-318609
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-161794
出願人:住友電気工業株式会社
-
光半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-063778
出願人:富士通株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-163061
出願人:日本電気株式会社
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