特許
J-GLOBAL ID：200903022286555127

誘導結合プラズマ処理装置

発明者：
里吉 務

里吉 務 について

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天野 健次

天野 健次 について

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伊藤 博道

伊藤 博道 について

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宮崎 由都

宮崎 由都 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-134719
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028299
出願日： 2000年05月08日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】高周波アンテナに対応して処理室の天井に誘電体壁が配設された誘導結合プラズマ処理装置において、装置の大型化に伴って生じる種々の問題に対処するための改良を装置に加える。【解決手段】誘導結合プラズマエッチング装置は、仕切り構造2により、アンテナ室4と処理室5とに区画された本体容器1を含む。アンテナ室4内には高周波アンテナ13が配設され、処理室5内にはLCDガラス基板LSを載置するためのサセプタ22が配設される。仕切り構造2は、十字形状の支持梁16により支持された4枚のセグメント3sからなる誘電体壁3を含む。支持梁16は複数のサスペンダ8a、8bによって、本体容器1の天井に吊持される。支持梁16は、処理室5内に処理ガスを供給するためのシャワーヘッドの筐体として使用される。
請求項（抜粋）：
気密な処理室と、前記処理室内で被処理基板を載置するための載置台と、前記処理室内に処理ガスを供給するための処理ガス供給系と、前記処理室内を排気すると共に前記処理室内を真空に設定するための排気系と、前記処理室の天井に配設された誘電体壁と、前記処理室外で前記誘電体壁に面して配設された高周波アンテナと、前記高周波アンテナは、前記処理ガスをプラズマに転化するための誘導電界を前記処理室内に形成することと、前記誘電体壁の上方に配設された上方枠と、前記誘電体壁の周縁部から離れた位置において、前記誘電体壁の荷重を前記上方枠に掛けるように配設されたサスペンダと、前記載置台と前記誘電体壁との間に配設され、前記処理ガス供給系に接続されたガス流路と前記載置台に対して開口する複数のガス供給孔とを有するシャワー筐体を含むシャワーヘッドと、前記シャワー筐体は、前記サスペンダに接続されると共に前記誘電体壁と平行に延在する部分を有し、前記誘電体壁を支持する支持梁として機能することと、を具備することを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (4件)：
H05H 1/46 L ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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