塗布膜形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-044330
公開番号（公開出願番号）：特開2005-236092
出願日： 2004年02月20日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】基板における転写発生を抑制するとともに基板へのパーティクルの付着を防止し、さらにフットプリントの増大を抑え、塗布液を吐出するノズルの洗浄を行う洗浄ユニットからの装置汚染を抑制した塗布膜形成装置を提供する。【解決手段】レジスト塗布装置(CT)23aは、LCD基板Gを略水平姿勢で一方向に搬送する基板搬送機構13と、LCD基板Gの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル14と、LCD基板Gが搬送される領域の上空に固定配置され、少なくともレジスト供給ノズル14に洗浄処理を施すノズル洗浄ユニット15と、を有する。レジスト供給ノズル14を、LCD基板Gにレジスト液を供給する位置とノズル洗浄ユニット15とにアクセス可能とした。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

基板を一方向に搬送しながら前記基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、基板を略水平姿勢で一方向に搬送する基板搬送機構と、前記基板搬送機構によって搬送される基板の表面に所定の塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、基板が搬送される領域の上空に固定配置され、少なくとも前記塗布液供給ノズルに所定の洗浄処理を施すノズル洗浄ユニットと、前記塗布液供給ノズルを、前記基板搬送機構によって搬送される基板に塗布液を供給する位置および前記ノズル洗浄ユニットにアクセスさせるノズル移動機構と、を具備することを特徴とする塗布膜形成装置。

IPC (7件)：

H01L21/027 , B05C5/02 , B05C11/10 , B05C13/02 , B65G49/06 , G03F7/16 , H01L21/68

FI (7件)：

H01L21/30 564Z , B05C5/02 , B05C11/10 , B05C13/02 , B65G49/06 Z , G03F7/16 501 , H01L21/68 A

Fターム (50件)：

2H025AB14 , 2H025AB17 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025EA04 , 4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AA06 , 4F041AB02 , 4F041BA51 , 4F041BA54 , 4F041BA60 , 4F042AA06 , 4F042AA07 , 4F042AA08 , 4F042CC08 , 4F042CC10 , 4F042DF10 , 4F042DF15 , 5F031CA05 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA47 , 5F031GA48 , 5F031GA49 , 5F031GA51 , 5F031GA60 , 5F031GA62 , 5F031HA13 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA57 , 5F031HA60 , 5F031LA08 , 5F031LA12 , 5F031LA13 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA23 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031PA23 , 5F046JA01 , 5F046JA02 , 5F046JA27

引用特許：

出願人引用 (1件)

塗布膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-331663 出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (7件)

流体塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-154411 出願人：平田機工株式会社, シプレイ・ファーイースト株式会社
流体塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-154412 出願人：平田機工株式会社, シプレイ・ファーイースト株式会社
感光性樹脂層積層方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-362965 出願人：富士写真フイルム株式会社

全件表示

前のページに戻る