特許
J-GLOBAL ID：200903022452487232
結像特性計測方法及び露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-233975
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079585
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】投影光学系の結像特性を計測する際の計測能力の向上を図る。【解決手段】投影光学系のコマ収差等の結像特性を計測するために、ウエハに転写するライン・アンド・スペースパターンのラインパターンの数を5本から2本に変更する。このようにすれば、ウエハ上に形成されるラインパターンの像の線幅等のサイズへのデフォーカス量、レチクル製造誤差等の影響を少なくすることができ、高精度に投影光学系の結像特性を計測することができる。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
第1面上のパターンを第2面上に投影する投影光学系の結像特性を計測する結像特性計測方法であって、
所定間隔をおいて配設された所定幅を有する2つの所定パターンによって形成されるマークを前記第1面上に配置し、前記投影光学系を介して前記マークを前記第2面上に配置された物体上に転写する露光工程と;
前記物体上に形成された前記マークの像のサイズを計測する計測工程と;
前記計測されたマークの像のサイズに関する情報に基づいて前記投影光学系の結像特性を算出する算出工程と;を含む結像特性計測方法。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G01M11/02
, G03F7/20
H01L21/30 516A
, G01M11/02 B
, G03F7/20 521
2G086HH06
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DB05
, 5F046DB08
, 5F046EA03
, 5F046EA09
, 5F046EB02
, 5F046EC03
, 5F046EC05
