特許
J-GLOBAL ID：200903022494284013

レジストパターン形成方法並びに磁気記録媒体及び磁気ヘッドの製造方法

発明者：
藤田 実

藤田 実 について

, 
高井 充

高井 充 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (1件)： 吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-384694
公開番号（公開出願番号）：特開2005-150335
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 凸部の幅の狭いレジストパターンを、容易に且つ製造時の剥離等の問題なく形成できるレジストパターン形成方法、及びその方法を適用した磁気記録媒体の製造方法及び磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 基板11上に形成されたレジスト層12にインプリント法で凹凸形状を有するモールド21のレジストパターン1を転写した後、転写されたレジストパターン1の凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールド21の凹部23の幅w6よりも狭い幅w4の凸形状15を有するレジストパターン2を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたレジスト層にインプリント法で凹凸形状を有するモールドのパターンを転写した後、転写されたレジストパターンの凸形状のパターン側面をエッチングすることにより、対応するモールドの凹部の幅よりも狭い幅の凸形状を有するレジストパターンを形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。
IPC (5件)：
H01L21/027 ,  B05D3/10 ,  G03F7/40 ,  G11B5/31 ,  G11B5/84
FI (5件)：
H01L21/30 502D ,  B05D3/10 C ,  G03F7/40 511 ,  G11B5/31 M ,  G11B5/84 Z
Fターム (24件)：
2H096AA27 ,  2H096HA05 ,  2H096LA30 ,  4D075BB06Y ,  4D075BB20Z ,  4D075BB45Z ,  4D075BB49Z ,  4D075BB92Z ,  4D075CA47 ,  4D075CB21 ,  4D075DA04 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB11 ,  4D075DB31 ,  4D075DC19 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  5D033DA08 ,  5D033DA31 ,  5D112AA05 ,  5D112GA26 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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