緻密薄膜形成方法および装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-035353
公開番号（公開出願番号）：特開2006-219610
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】本願発明では、試料表面の反応性溶液に均一に加圧した状態で化学反応を行なう事により、高分子溶液表面に皮膜を形成し、その皮膜に圧力を均等にかけながら化学反応を進めることにより、基板との密着性に富む緻密で硬質、かつ、割れが少ない耐水性のある薄膜を形成することによって試料表面を高品質なコーティング、モールディングあるいはグラディングを提供する。【解決手段】本願発明によれば、固体試料表面のシリコーンオイルやシリコーンゴムなどの高分子溶液に酸化剤高圧ガス雰囲気で紫外線を照射してSiO2皮膜を形成し、その皮膜にさらに圧力を均等にかけることによって、硬化反応をさらに促進させ、試料表面をコーティング、モールディングあるいはグラディングする。この硬化反応は紫外線硬化反応に限らず熱、放射線、プラズマ、電解、電荷あるいは触媒などで起きるし、加圧もガスに限らず液体あるいは油などの加圧が可能である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

試料表面の高分子溶液を均一に加圧した状態で、光や熱などにより硬化反応を誘起すことによって、試料表面をコーティング、モールディングあるいはグラディングするに先立ち、活性ガスあるいは不活性ガス又は液体あるいは油雰囲気にある反応容器の中に置かれた固体試料あるいはフィルム表面に塗布された高分子溶液に気体絶縁膜あるいは半気体絶縁膜を被せた状態でガス、液体あるいは油などの加圧を行いながら、光、熱、放射線、プラズマ、電解、電荷あるいは触媒による化学反応を誘起することによる緻密薄膜形成方法および装置。

IPC (6件)：

C08J 7/04 , A61F 2/14 , A61F 2/16 , B65D 23/02 , B65D 25/14 , G02C 7/02

FI (7件)：

C08J7/04 K , C08J7/04 , A61F2/14 , A61F2/16 , B65D23/02 Z , B65D25/14 A , G02C7/02

Fターム (33件)：

3E062AA04 , 3E062AA09 , 3E062AB01 , 3E062AB02 , 3E062AC02 , 3E062AC03 , 3E062JA01 , 3E062JA07 , 3E062JB22 , 3E062JC02 , 3E062JD06 , 4C097AA25 , 4C097BB01 , 4C097CC01 , 4C097CC03 , 4C097DD03 , 4C097EE13 , 4C097FF03 , 4C097FF04 , 4C097FF10 , 4C097MM03 , 4C097MM04 , 4C097MM07 , 4C097SA01 , 4F006AA18 , 4F006AA35 , 4F006AB39 , 4F006BA02 , 4F006CA05 , 4F006CA07 , 4F006CA09 , 4F006DA01 , 4F006DA05

引用特許：

出願人引用 (9件)

特願平2-410824
酸化膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-260651 出願人：学校法人東海大学
酸化膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-222049 出願人：学校法人東海大学, ウシオ電機株式会社

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