特許
J-GLOBAL ID:200903022698902247

マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、マスクの製造方法、及びマスクブランク用基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤村 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-200371
公開番号(公開出願番号):特開2009-058950
出願日: 2008年08月04日
公開日(公表日): 2009年03月19日
要約:
【課題】マスクブランク用基板及びマスクブランク等の識別や管理を適切に行う。【解決手段】マスクブランク用基板10の製造方法であって、主表面102が4角形の板状の基板を準備する基板準備工程と、基板を識別又は管理するためのマーカ106a〜dを、主表面102の各辺にそれぞれ繋がる基板の4個の端面104a〜dのうち、少なくとも複数の端面に形成するマーカ形成工程とを備える。【選択図】図1
請求項(抜粋):
マスクブランク用基板の製造方法であって、 主表面が4角形の板状の基板を準備する基板準備工程と、 前記基板を識別又は管理するためのマーカを、前記主表面の各辺にそれぞれ繋がる前記基板の4個の端面のうち、少なくとも複数の前記端面に形成するマーカ形成工程と を備えることを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
IPC (3件):
G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F1/08 R ,  G03F1/14 A ,  H01L21/30 502P
Fターム (5件):
2H095BA01 ,  2H095BA02 ,  2H095BC26 ,  2H095BE07 ,  2H095BE08
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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