特許
J-GLOBAL ID：200903022785401769

荷電粒子ビーム露光装置、静電偏向器およびその製造方法

発明者：
今中 佳彦

今中 佳彦 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-034217
公開番号（公開出願番号）：特開2001-223154
出願日： 2000年02月10日
公開日（公表日）： 2001年08月17日
要約：
【要約】【課題】 荷電粒子ビーム露光装置の静電偏向器を構成する偏向電極を、渦電流を抑制できる最適な比抵抗を有し、かつ酸素プラズマ中で行われるクリーニングに対して優れた耐性を有する材料により構成する。【解決手段】 前記偏向電極を、RuO2等の非磁性導電性微粒子を分散させた無機ガラスセラミックにより形成し、含まれる非磁性導電性微粒子の含有量を最適化する。
請求項（抜粋）：
真空室と、前記真空室中に配設された荷電粒子ビーム源と、前記真空室中に配設され、被露光基板を担持するように適合されたステージと、前記真空室中、前記荷電粒子ビーム源と前記ステージとの間に配設された電磁レンズと、前記真空室中、前記荷電粒子ビーム源と前記ステージとの間に配設された静電偏向器とを備えた荷電粒子ビーム露光装置において、前記静電偏向器は、非磁性酸化物粒子と無機ガラスとの複合材料より構成される偏向電極を含むことを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 ,  H01J 9/14 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305
FI (8件)：
G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/04 M ,  H01J 9/14 A ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 D
Fターム (9件)：
2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C033GG02 ,  5C034BB04 ,  5F056CB16 ,  5F056CC02 ,  5F056CC04 ,  5F056EA06
引用特許：
審査官引用 (13件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM