特許
J-GLOBAL ID:200903023036195946
成膜装置の基板トレイ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中西 次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-287138
公開番号(公開出願番号):特開2005-054244
出願日: 2003年08月05日
公開日(公表日): 2005年03月03日
要約:
【課題】 本発明は、ガラス基板のマスク部及び成膜部との温度差を低減し、基板割れの生じにくい基板トレイを提供することを目的とする。【解決手段】成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする。また、前記マスク両表面に凹凸を形成したことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする基板トレイ。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA43
, 4K029CA01
, 4K029DB21
, 4K029HA02
, 4K029HA03
, 4K029JA01
, 5C027AA07
, 5C040GE09
, 5C040JA07
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
基板構造体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-334832
出願人:キヤノン株式会社
審査官引用 (6件)
-
基板の成膜装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-398387
出願人:日本電気硝子株式会社
-
薄膜形成用マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-070758
出願人:株式会社村田製作所
-
耐食性モリブデン・マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-012492
出願人:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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