特許
J-GLOBAL ID：200903023036195946

成膜装置の基板トレイ

発明者：
中河原 均

中河原 均 について

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井川 誠一

井川 誠一 について

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森脇 崇行

森脇 崇行 について

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斎藤 友康

斎藤 友康 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 中西 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-287138
公開番号（公開出願番号）：特開2005-054244
出願日： 2003年08月05日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】 本発明は、ガラス基板のマスク部及び成膜部との温度差を低減し、基板割れの生じにくい基板トレイを提供することを目的とする。【解決手段】成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする。また、前記マスク両表面に凹凸を形成したことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
成膜装置の内部に、基板を保持して搬送され、薄膜材料源と対向して配置される基板トレイであって、薄膜材料粒子が通過する開口を有するトレイと基板との間に、所定の形状に薄膜を形成するためのマスクを配置する構成とし、該マスクの両表面の放射率を0.2以上としたことを特徴とする基板トレイ。
IPC (1件)：
C23C14/50
FI (1件)：
C23C14/50 K
Fターム (11件)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029CA01 ,  4K029DB21 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029JA01 ,  5C027AA07 ,  5C040GE09 ,  5C040JA07
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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