特許
J-GLOBAL ID：200903023382296368
多孔質膜の形成方法及び同方法によって形成された多孔質膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本田 ▲龍▼雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-165883
公開番号（公開出願番号）：特開2005-000780
出願日： 2003年06月11日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：
【課題】原料溶液の粘度が低い場合であっても、所望の均一厚さの多孔質膜を基板に容易に形成する方法及び同方法によって形成された多孔質膜を提供する。【解決手段】基板3の表面に一定高さの枠体4を形成する枠体形成工程と、前記枠体4によって取り囲まれた基板3の表面に、多孔質膜の骨格を形成する骨格材料と多孔質膜の空孔の基となる孔源材料とが混合された原料溶液Sを供給して一次膜を形成する原料溶液供給工程と、前記枠体4の内側に形成された一次膜を乾燥し、前記一次膜から孔源材料を除去する乾燥除去工程とを有する。前記基板の原料溶液供給面における原料溶液に対する接触角をθ1とするとき、前記枠体の少なくとも上面における原料溶液に対する接触角θ2がθ2>θ1とされる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に一定高さの枠体を形成する枠体形成工程と、
前記枠体によって取り囲まれた基板の表面に、多孔質膜の骨格を形成する骨格材料と多孔質膜の空孔の基となる孔源材料とが混合された原料溶液を供給して一次膜を形成する原料溶液供給工程と、
前記枠体の内側に形成された一次膜を乾燥し、前記一次膜から孔源材料を除去する乾燥除去工程とを有し、
前記基板の原料溶液供給面における原料溶液に対する接触角をθ1とするとき、前記枠体の少なくとも上面における原料溶液に対する接触角θ2がθ2>θ1であることを特徴とする多孔質膜の形成方法。
IPC (3件)：
B05D5/00
, B05D7/24
, H01L21/316
B05D5/00 Z
, B05D7/24 302Y
, H01L21/316 G
4D075AB05
, 4D075AB41
, 4D075AC53
, 4D075AC54
, 4D075AC84
, 4D075BB24Z
, 4D075CA01
, 4D075CA13
, 4D075CA23
, 4D075DA06
, 4D075DB06
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DB61
, 4D075DC19
, 4D075DC21
, 4D075EA12
, 4D075EB01
, 4D075EB43
, 4D075EB47
, 4D075EC08
, 5F058AA10
, 5F058AC03
, 5F058AF06
, 5F058AG01
, 5F058AH02
, 5F058BA20
, 5F058BC05
, 5F058BD07
, 5F058BF47
, 5F058BH01
, 5F058BJ02
