特許

J-GLOBAL ID：200903024172639285

光学素子を評価する方法

発明者： 三宅 明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-053730
公開番号（公開出願番号）：特開2005-098966
出願日： 2004年02月27日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】 任意の形状を有する光学素子の入射光から見た形状や入射光と反射光との関係を正確、簡易かつ安価に測定することを可能とする光学素子の評価方法を提供する。【解決手段】 多層膜が形成された反射型光学素子の評価方法であって、前記光学素子に波長2乃至40nmの光を入射させた際に生じる定在波を用いて、前記多層膜へ入射する光と前記多層膜から反射する光との位相差を算出するステップを有することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

多層膜が形成された反射型光学素子の評価方法であって、 前記光学素子に波長2乃至40nmの光を入射させた際に前記多層膜から放出される二次放射線を計測し、該計測値に基づいて前記多層膜へ入射する光と前記多層膜から反射する光との位相差を決定するステップを有することを特徴とする方法。

IPC (6件)：

G01B15/04 ,  G01M11/00 ,  G01N23/223 ,  G01N23/227 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (6件)：

G01B15/04 ,  G01M11/00 M ,  G01N23/223 ,  G01N23/227 ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 531A

Fターム (34件)：

2F067AA41 ,  2F067BB02 ,  2F067BB16 ,  2F067EE04 ,  2F067EE05 ,  2F067HH04 ,  2F067KK01 ,  2F067KK05 ,  2F067KK06 ,  2F067KK11 ,  2F067LL15 ,  2F067LL17 ,  2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA08 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001LA02 ,  2G001MA05 ,  2G086GG01 ,  2H097AA04 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046CB02 ,  5F046CB03 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046GA03 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 点回折干渉計、反射鏡の製造方法及び投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-039092   出願人：株式会社ニコン
• 干渉計
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-267570   出願人：株式会社ニコン
• 多層膜の評価方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-038518   出願人：エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 日本原子力研究所
• X線分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-228827   出願人：富士通株式会社

審査官引用 (3件)

• X線分析方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-228827   出願人：富士通株式会社
• 反射型投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-030408   出願人：キヤノン株式会社
• X線干渉顕微鏡およびX線反射鏡の検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-006423   出願人：日本電信電話株式会社