荷電ビ-ム描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大胡典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-359156
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182938
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】高速に連続移動するステージ連続移動方式の荷電ビーム描画装置において、高精度な描画装置を提供する。【解決手段】一定の時間間隔でサンプリングされた複数のステージ位置情報から瞬間的なステージ速度と等価のトラッキング補正率(=ステージ移動量/サンプリング時間)を検出し、そのステージ速度データを積分器に入力して、サンプリング毎に積分器がリセットされるように制御しつつ、最終の出力電圧をビーム偏向電圧に加算してビーム位置を補正する。

請求項（抜粋）：

ステージ連続移動方式の荷電ビーム描画装置において、ステージの位置を検出する回路から一定のサンプリング時間間隔で得られる位置データからそのサンプリング時間より短い時間で発生するステージの移動量を補間してビームの位置を補正することを特徴とする荷電ビ-ム描画装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504

FI (2件)：

H01L 21/30 541 D , G03F 7/20 504

Fターム (12件)：

2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097CA16 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5F056AA20 , 5F056BA08 , 5F056BC03 , 5F056CB15 , 5F056CC05 , 5F056EA06 , 5F056EA14

引用特許：

審査官引用 (11件)

荷電粒子ビーム露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-174642 出願人：富士通株式会社
電子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-023556 出願人：株式会社日立製作所
特開昭57-053938

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