プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171901
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012296
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】従来のプラズマ処理装置においては、放電の維持電圧が往々にして大きくなってしまうという問題点があった。【解決手段】基板に対してプラズマ処理を施すためのプラズマ処理装置であって、石英管11からなる透過部を備えて形成されたチャンバ1と、透過部の周囲にコイル状に巻回されたコイル状電極14と、コイル状電極14に交流電力を供給するための電源と、を具備してなり、コイル状電極14は、電源に対して並列接続された複数のコイル14a、14bから構成されている。

請求項（抜粋）：

基板に対してプラズマ処理を施すためのプラズマ処理装置であって、電磁波透過性材料壁からなる透過部を備えて形成されたチャンバと、前記透過部の周囲にコイル状に巻回されたコイル状電極と、該コイル状電極に交流電力を供給するための電源と、を具備してなり、前記コイル状電極は、前記電源に対して並列接続された複数のコイルから構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H05H 1/46 L , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (10件)：

5F004BA00 , 5F004BB26 , 5F004BB32 , 5F004BC06 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F045AA08 , 5F045EB08 , 5F045EH19 , 5F045EN04

引用特許：

審査官引用 (7件)

マルチセクションRFコイルおよび隔離された導電性蓋を有するプラズマ・リアクター
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-181544 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-270937 出願人：日立東京エレクトロニクス株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-060146 出願人：株式会社サムコインターナショナル研究所

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