特許
J-GLOBAL ID：200903026105580945
レーザ描画方法とその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-380325
公開番号（公開出願番号）：特開2003-177553
出願日： 2001年12月13日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：
【要約】【課題】 被描画体へのレーザ描画精度を高精度に維持できるレーザ描画方法とその装置を提供する。【解決手段】 本発明のレーザ描画装置は、第1の光量モニタ35の光学部品の特性劣化や異物の付着などに起因してこの第1の光量モニタ35の光学特性が変化し、第1の光量モニタ35でのレーザビームLBcの光量検出に変化が生じたとしても、結像光学系21から描画ステージ5に出射されたレーザビームLBの光量を第2の光量モニタ37で検出した結果に基づいて、第1の光量モニタ35におけるレーザビームLBcの光量検出精度を校正することができ、プリント配線基板S(被描画体)に照射されるレーザビームLBの光量を適正な値にでき、高い光量精度が要求される高精細描画を高品質に維持して行なうことができる。
請求項（抜粋）：
レーザビームを走査して被描画体に所望のパターンを描画するレーザ描画方法において、光量調整手段によって光量調整されたレーザビームの少なくとも一部を抽出手段によって抽出して、この抽出したレーザビームの光量を第1の光量検出手段によって検出する第1の検出過程と、前記第1の検出過程による検出結果に基づいて、前記光量調整手段を調整する光量調整過程と、前記光量調整手段によって光量調整された後のレーザビームの光路中に介在した第2の光量検出手段によってレーザビームの光量を直接検出する第2の検出過程と、前記第1の検出過程による検出結果および前記第2検出過程で得られた検出結果に基づいて、前記光量調整過程を校正する校正過程とを含むことを特徴とするレーザ描画方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20 505
, H01L 21/027
, H05K 3/00
G03F 7/20 505
, H05K 3/00 N
, H01L 21/30 529
2H097AA03
, 2H097BB01
, 2H097CA08
, 2H097CA17
, 2H097LA09
, 5F046BA07
, 5F046DA02
, 5F046DB01
