特許
J-GLOBAL ID：200903026291222875

塗布材料の膜厚ムラ検査方法

発明者：
秋山 佳央

秋山 佳央 について

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中西 稔

中西 稔 について

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前田 剛志

前田 剛志 について

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村上 慎一郎

村上 慎一郎 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-157406
公開番号（公開出願番号）：特開平11-351830
出願日： 1998年06月05日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：
【要約】【課題】 基材上に薄膜状に塗布されている塗布材料の膜厚ムラの抽出を高い精度で行うことができる検査方法で、比較的簡単に表示装置を介して目視にて確認することができる検査方法、および自動検査方法を提供する。【解決手段】 順に、照明光を塗布材料に入射して、基材面にて反射された照明光の正反射光で、且つ前記特定波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影した撮影画像を得る撮影処理と、前記撮影により得られた撮影画像の画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置により予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像データを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算する除算処理と、さらに除算処理の結果得られた画像データに対してシエーディング除去処理を行う。
請求項（抜粋）：
基材上に薄膜状に塗布されている、特定の光波長域に対して、光透過性を有し、且つ、吸収性を有する塗布材料の膜厚ムラを検査する方法であって、順に、照明光を塗布材料に入射して、基材面にて反射された照明光の正反射光で、且つ前記特定波長域の光のみで撮影し、検査領域を撮影した撮影画像を得る撮影処理と、前記撮影により得られた撮影画像の画像データに対し、該撮影画像を撮影した撮影装置により予め均一な照度分布を有する対象物を撮影した画像データを用い、対応する各画素毎に、それぞれ、除算する除算処理と、除算処理の結果得られた画像データに対して、所定の周波数よりも高い空間周波数成分のみを抽出して、信号の緩やかな変化分を除去する、シエーディング除去処理とを行うことを特徴とする塗布材料の膜厚ムラ検査方法。
IPC (6件)：
G01B 11/02 ,  G01B 11/30 101 ,  G03F 7/16 ,  G06T 7/00 ,  H01J 9/14 ,  H01J 9/42
FI (6件)：
G01B 11/02 Z ,  G01B 11/30 101 A ,  G03F 7/16 ,  H01J 9/14 G ,  H01J 9/42 A ,  G06F 15/62 400
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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