表面波励起プラズマの生成方法

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-156426
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348898
出願日： 1999年06月03日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】反応性の表面波励起プラズマの大面積化を適切なかたちで図る。【解決手段】本発明の表面波励起プラズマの生成方法は、ガス導入部3からメインガスである酸素ガスまたは水素ガスと、プラズマ生成を促進する触媒ガスとして水ガスおよび/または希ガス族元素のガスとをチャンバー1へ同時に導入するとともに、スロットアンテナ6から石英板窓4を介してマイクロ波電力を供給する構成を備えており、チャンバー1の内で触媒ガスを酸素ガスに混在させることによりプラズマ密度が高まる結果、チャンバー1の内に供給されたマイクロ波が表面波となって伝搬してプラズマが面方向へ速やかに広がる。触媒ガスの併用により、処理対象物に熱ダメージを与えるような温度上昇を伴うこともないので、表面波励起プラズマの大面積化が適切なかたちで実現する。

請求項（抜粋）：

チャンバー内にガスを導入しながらチャンバー内を減圧雰囲気に保持するとともに、スロットアンテナからチャンバー壁に設けられている誘電体窓を介してマイクロ波電力をチャンバー内に供給して表面波励起プラズマを生成するプラズマの生成方法において、チャンバー内に酸素ガスを導入するとともに、触媒ガスとして水ガス(水蒸気)および/または希ガス族元素のガスをも同時に導入するようにすることを特徴とする表面波励起プラズマの生成方法。

IPC (3件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H05H 1/46 B , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (27件)：

5F004AA00 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB14 , 5F004BB28 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA24 , 5F004DA26 , 5F045AA08 , 5F045AA09 , 5F045AC11 , 5F045AC14 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AE15 , 5F045AE17 , 5F045AE19 , 5F045AE21 , 5F045DP01 , 5F045DP02 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EF05 , 5F045EH01 , 5F045EH02 , 5F045EH03

引用特許：

審査官引用 (9件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-040557 出願人：株式会社東芝
プラズマCVD方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-195197 出願人：キヤノン株式会社
薄膜の除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-316800 出願人：住友金属工業株式会社

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