特許
J-GLOBAL ID:200903026398684596
ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
安富 康男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-342382
公開番号(公開出願番号):特開2003-146914
出願日: 2001年11月07日
公開日(公表日): 2003年05月21日
要約:
【要約】【課題】 ハイドレートとの相互作用が大きく、充分な流動性を有しかつ充分なガス量を有するハイドレートスラリーを製造することを可能とする、ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤を提供する。【解決手段】 水溶性高分子を含んでなり、該水溶性高分子がハイドレート粒子表面に吸着又は包接される官能基(A)を有し、かつ(A)とは異なる水溶性の官能基(B)を有するガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤。
請求項(抜粋):
水溶性高分子を含んでなり、ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤であって、該水溶性高分子は、ハイドレート粒子表面に吸着又はハイドレート粒子中に包接される官能基(A)を有し、かつ該官能基(A)とは異なる水溶性の官能基(B)を有することを特徴とするガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤。
IPC (5件):
C07C 5/00
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 7/20
, C07C 9/02
FI (5件):
C07C 5/00
, C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 7/20
, C07C 9/02
Fターム (4件):
4H006AA02
, 4H006AC93
, 4H006AD40
, 4H006BE60
引用特許:
前のページに戻る