特許
J-GLOBAL ID：200903026398684596

ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤

発明者：
川崎 達治

川崎 達治 について

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奥井 智治

奥井 智治 について

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冨田 高史

冨田 高史 について

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有田 義広

有田 義広 について


出願人/特許権者：
東京瓦斯株式会社

東京瓦斯株式会社 について

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株式会社日本触媒

株式会社日本触媒 について


代理人 (1件)： 安富 康男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342382
公開番号（公開出願番号）：特開2003-146914
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：
【要約】【課題】 ハイドレートとの相互作用が大きく、充分な流動性を有しかつ充分なガス量を有するハイドレートスラリーを製造することを可能とする、ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤を提供する。【解決手段】 水溶性高分子を含んでなり、該水溶性高分子がハイドレート粒子表面に吸着又は包接される官能基(A)を有し、かつ(A)とは異なる水溶性の官能基(B)を有するガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤。
請求項（抜粋）：
水溶性高分子を含んでなり、ガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤であって、該水溶性高分子は、ハイドレート粒子表面に吸着又はハイドレート粒子中に包接される官能基(A)を有し、かつ該官能基(A)とは異なる水溶性の官能基(B)を有することを特徴とするガスをハイドレートとして輸送及び/又は貯蔵するための添加剤。
IPC (5件)：
C07C 5/00 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/02
FI (5件)：
C07C 5/00 ,  C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/02
Fターム (4件)：
4H006AA02 ,  4H006AC93 ,  4H006AD40 ,  4H006BE60
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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