特許
J-GLOBAL ID:200903026469063202
ハイドレート生成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-288839
公開番号(公開出願番号):特開2006-104228
出願日: 2004年09月30日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】 安定な生成量および転化率でハイドレートを製造できるハイドレート生成装置の提供。【解決手段】 水とハイドレート形成ガスとをタンク内に投入し、所定圧力下で前記タンク内の水中に前記ハイドレート形成ガスを循環しバブリングしハイドレートを生成するハイドレート生成装置であって、前記ハイドレート形成ガスの温度を検出する温度検出手段と、前記ハイドレート形成ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、前記ハイドレート形成ガスを冷却あるいは加熱してガスの温度を調整する温度調整手段と、を備えたガスラインを有し、前記ガスライン内のハイドレート形成ガスの温度をハイドレートの平衡温度Teq+αに維持することでガスライン内部でのハイドレート生成を防止し、ラインの閉塞を防ぐことを特徴とするハイドレート生成装置。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水とハイドレート形成ガスとをタンク内に投入し、所定圧力下で前記タンク内の水中に前記ハイドレート形成ガスを循環しバブリングしハイドレートを生成するハイドレート生成装置であって、
前記ハイドレート形成ガスの温度を検出する温度検出手段と、
前記ハイドレート形成ガスの圧力を検出する圧力検出手段と、
前記ハイドレート形成ガスを冷却あるいは加熱してガスの温度を調整する温度調整手段と、を備え、
前記タンクに連通するガスライン内のハイドレート形成ガスの温度をハイドレートの平衡温度Teq+αに維持することを特徴とするハイドレート生成装置。
IPC (3件):
C10L 3/06
, C07C 5/00
, C07C 7/152
FI (3件):
C10L3/00 A
, C07C5/00
, C07C7/152
Fターム (3件):
4H006AA02
, 4H006AD33
, 4H006BE60
引用特許: