プラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：谷川昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-042287
公開番号（公開出願番号）：特開2007-220594
出願日： 2006年02月20日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：

【課題】プラズマ生成におけるアンテナインピーダンスの変化に拘らず、安価に均一にプラズマを生成させ得るプラズマ生成方法及びプラズマ生成装置並びにプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】各アンテナ2は同一とし、各アンテナ2への高周波電力の印加を、各アンテナ2に共通に設けた高周波電源4から一つの整合器5及び一本のブスバー3を介して行うようにし、ブスバー3を整合器5との接続部位を基準にアンテナ数と同数に区間分けし、各アンテナ一端部を、対応する区間部分31、32又は33に電力供給線311、321又は331にて接続し、各アンテナ他端部は接地し、各ブスバー区間部分のインピーダンス及び各電力供給線のインピーダンスを各アンテナに流れる電流及び各アンテナに印加される電圧のそれぞれが同一となるように調整することで、各アンテナ2に供給される高周波電力を均一化して誘導結合プラズマを発生させる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

プラズマ生成室内に複数本の高周波アンテナを設置し、該高周波アンテナにて該プラズマ生成室内のガスに高周波電力を印加して誘導結合プラズマを発生させるプラズマ生成方法であり、該各高周波アンテナとして同一の高周波アンテナを採用し、該各高周波アンテナへの高周波電力の印加を、それら高周波アンテナに共通に設けた高周波電源から該高周波電源に接続された整合器及び該整合器に接続されたブスバーを介して行うようにし、該ブスバーを前記整合器との接続部位を基準にしてブスバー長手方向において前記高周波アンテナの数と同数に区間分けし、前記各高周波アンテナの一端部を、該各区間部分に、一つの区間部分に対し一本の高周波アンテナを対応させて電力供給線にて接続するとともに、該各高周波アンテナの他端部を同じ接地条件で接地状態に設定し、該ブスバー及び該電力供給線を接地電位のシールドケースで囲み、該ブスバーの各区間部分のインピーダンス及び該各区間部分に高周波アンテナを接続する前記電力供給線のインピーダンスをプラズマ生成時に各高周波アンテナに流れる電流及び各高周波アンテナに印加される電圧がそれぞれ同一となるように調整することで、該各高周波アンテナに供給される高周波電力を均一化して前記誘導結合プラズマを発生させることを特徴とするプラズマ生成方法。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , H01L 21/205 , H01L 21/306 , C23C 16/505

FI (4件)：

H05H1/46 L , H01L21/205 , H01L21/302 101C , C23C16/505

Fターム (21件)：

4K030AA06 , 4K030BA29 , 4K030FA04 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB13 , 5F004BB29 , 5F004BD03 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F004CA03 , 5F004CA08 , 5F045AA08 , 5F045AB02 , 5F045AC01 , 5F045BB01 , 5F045EH02 , 5F045EH11 , 5F045EH19

引用特許：

出願人引用 (1件)

薄膜の形成方法及び誘導結合型プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-210316 出願人：株式会社トクヤマ

審査官引用 (5件)

プラズマ生成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-014718 出願人：三宅正司, 江部明憲
インピーダンス整合器
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-111791 出願人：凸版印刷株式会社
プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-212238 出願人：科学技術振興事業団

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