特許
J-GLOBAL ID:200903029341221602

プラズマ生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 小林 良平 ,  竹内 尚恒
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-014718
公開番号(公開出願番号):特開2004-228354
出願日: 2003年01月23日
公開日(公表日): 2004年08月12日
要約:
【課題】空間的に均一な密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。【解決手段】真空容器11内に複数個の高周波アンテナ16を配置し、各高周波アンテナ16にインピーダンス素子17を接続する。高周波電源20に、銅板18を介して複数の高周波アンテナ16を並列に接続する。各インピーダンス素子17をそれぞれ適切な値に調節することにより、高周波電源20から各高周波アンテナ16に供給される高周波電力を制御する。これにより、真空容器11内のプラズマ密度の均一性を高くすることができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
a)真空容器と、 b)前記真空容器内に設けた複数の高周波アンテナと、 c)各々の高周波アンテナに接続したインピーダンス素子と、 を備えることを特徴とするプラズマ生成装置。
IPC (5件):
H01L21/205 ,  B01J3/00 ,  B01J19/08 ,  C23C16/505 ,  H05H1/46
FI (6件):
H01L21/205 ,  B01J3/00 J ,  B01J19/08 H ,  C23C16/505 ,  H05H1/46 L ,  H05H1/46 R
Fターム (30件):
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  4K030AA06 ,  4K030BA29 ,  4K030BB03 ,  4K030BB04 ,  4K030CA06 ,  4K030FA01 ,  4K030JA16 ,  4K030JA17 ,  4K030KA30 ,  4K030LA15 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AF07 ,  5F045CA13 ,  5F045CA15 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11 ,  5F045EH20 ,  5F045GB04
引用特許:
審査官引用 (12件)
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