特許
J-GLOBAL ID：200903026776992202

厚膜レジストパターンの形成方法

発明者：
高橋 修一

高橋 修一 について


出願人/特許権者：
クラリアント ジャパン 株式会社

クラリアント ジャパン 株式会社 について


代理人 (1件)： 鐘尾 宏紀 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-177561
公開番号（公開出願番号）：特開2002-365799
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月18日
要約：
【要約】【目的】感度、残膜率の低下を招くことなく、高解像力で、裾引きなどの無い良好なパターンを形成することのできる厚膜レジストパターン形成方法およびこれに用いる厚膜レジストパターン形成用感光性樹脂組成物を提供すること。【構成】アルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基を含む感光剤とを含有し、かつ該アルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂と(i)ポリアクリル酸エステル、(ii)ポリメタクリル酸エステル、(iii)ポリスチレン誘導体、および(iv)アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびスチレン誘導体から選ばれ、二種以上のモノマーユニットからなる共重合体、から選ばれる一種または二種以上の樹脂との混合物である感光性樹脂組成物を基板に塗布し、2.0μm以上の膜厚のフォトレジスト膜を形成し、露光後現像することにより厚膜レジストパターンを形成する。感光性樹脂組成物には感度向上のため蛍光物質を添加することができる。
請求項（抜粋）：
2.0μm以上の膜厚を有するフォトレジスト膜による厚膜レジストパターンの形成方法において、感光性樹脂組成物がアルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド基を含む感光剤とを含有し、かつ該アルカリ可溶性樹脂がノボラック樹脂と(i)ポリアクリル酸エステル、(ii)ポリメタクリル酸エステル、(iii)ポリスチレン誘導体、および(iv)アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルおよびスチレン誘導体から選ばれ、二種以上のモノマーユニットからなる共重合体、から選ばれる一種または二種以上の樹脂との混合物であることを特徴とする厚膜レジストパターン形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/032 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/022 601 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/032 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/022 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (14件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB29 ,  2H025CC11 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (7件)
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