ペンダントラクトン又はスルトン基を含むノルボルネン型モノマー及びポリマー

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：園田吉隆 , 小林義教
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-549497
公開番号（公開出願番号）：特表2007-517967
出願日： 2005年01月10日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：

開示された発明は、ペンダントラクトン又はスルトン基を含む新規ノルボルネン型モノマーに関する。発明はまたペンダントラクトン又はスルトン基を含むノルボルネン型ポリマー及びコポリマーに関する。これらのポリマー及びコポリマーは感光材料の製造に有用である。感光材料は、193及び157nmのフォトリソグラフィーに有用なフォトレジスト組成物において使用するのに特に適している。

請求項（抜粋）：

次の式:

IPC (4件)：

C08F 32/08 , G03F 7/075 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (4件)：

C08F32/08 , G03F7/075 511 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BF29 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100BA03P , 4J100BA11P , 4J100BA11Q , 4J100BA11R , 4J100BA15P , 4J100BA76P , 4J100BB12P , 4J100BC03P , 4J100BC53P , 4J100BC84P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-269745 出願人：信越化学工業株式会社
ポリマーおよびフォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-050207 出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-331910 出願人：信越化学工業株式会社

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