特許
J-GLOBAL ID：200903027492016870

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
奥谷 洋介

奥谷 洋介 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-259593
公開番号（公開出願番号）：特開2002-075953
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2002年03月15日
要約：
【要約】【課題】基板表面の中央部に処理液が付着することを防止でき、かつ、基板表面の周辺部に処理液による処理を良好に施すことができるとともに、処理液の再利用も可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板Wは、バキュームチャック1によってほぼ水平に保持された状態で回転される。基板Wに対向して、基板Wよりも小さな外形の遮断板2が配置されている。遮断板2は、基板Wと同じ方向にほぼ同じ速さで回転される。遮断板2の上に薬液供給ノズル41または純水供給ノズル42から処理液(薬液または純水)が供給される。この処理液は、遠心力により、遮断板2の回転半径方向外方へと向かい、基板Wの上面の周辺部に落下する。基板Wから外方へと落下する処理液(とくに薬液)は、スプラッシュガード60の回収処理液受け部62によって受けられ、その下方の回収溝52から回収ライン55へと導かれる。
請求項（抜粋）：
基板の周辺部の上面に処理液を供給して、基板の周辺部を処理する基板処理装置であって、基板を保持しつつ、ほぼ鉛直な回転軸を中心に当該基板を回転させる基板回転保持手段と、この基板回転保持手段に保持された基板の上面に対向して設けられ、上記基板回転保持手段の回転軸に沿う軸を中心に回転する回転部材と、基板の周辺部の上面に処理液が落下するように、上記回転部材上に処理液を吐出する処理液吐出手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/68
FI (2件)：
H01L 21/68 P ,  H01L 21/306 J
Fターム (10件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA13 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031NA04 ,  5F043AA26 ,  5F043BB18 ,  5F043DD30 ,  5F043EE08
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)

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