特許
J-GLOBAL ID：200903029168767343
光学素子成形型の加熱方法とその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-024458
公開番号（公開出願番号）：特開平11-228155
出願日： 1998年02月05日
公開日（公表日）： 1999年08月24日
要約：
【要約】【課題】光学素子を成形する際に生じる不均等な熱分布を小さくする。【解決手段】成形面1a、2aを互いに対向して配置された一対の成形型1、2とこの成形型1、2間に配置された光学素子素材3とを輻射加熱手段13から発振される電磁波によって加熱する光学素子成形型の加熱方法において、輻射加熱手段13から発振された電磁波を反射させる反射鏡15を移動させることによって、電磁波の焦点位置または電磁波の反射方向を変化させ、成形型1、2に到達する輻射熱量を一方の成形型1と他方の成形型2とで異なるように制御し、一対の成形型1、2間に温度差を生じさせながら加熱する。
請求項（抜粋）：
成形面を互いに対向して配置された一対の成形型とこの成形型間に配置された光学素子素材とを輻射加熱手段から発振される電磁波によって加熱する光学素子成形型の加熱方法において、前記輻射加熱手段から発振された電磁波を反射させる反射鏡を移動させることによって、電磁波の焦点位置または電磁波の反射方向を変化させ、前記成形型に到達する輻射熱量を一方の成形型と他方の成形型とで異なるように制御し、一対の成形型間に温度差を生じさせながら加熱することを特徴とする光学素子成形型の加熱方法。
引用特許：
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