特許

J-GLOBAL ID：200903029208373041

ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393871
公開番号（公開出願番号）：特開2005-156821
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】 PEB温度依存性が小さく、良好なプロファイルを示すポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および活性光線の照射により酸を発生する特定構造のスルホニウム塩化合物を含有するポジ型感光性組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)で表される化合物 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (3件)：

G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA00 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-098796   出願人：東京応化工業株式会社
• スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-332968   出願人：日本電気株式会社
• プラズマディスプレイパネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-199210   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (4件)

• 感エネルギー線ポジ型感応性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-117204   出願人：東洋インキ製造株式会社
• 光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-057067   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-134146   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-033923   出願人：富士写真フイルム株式会社