特許
J-GLOBAL ID:200903029245029385
エネルギー分散型X線分光器を備えるX線分析装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-101292
公開番号(公開出願番号):特開2009-250867
出願日: 2008年04月09日
公開日(公表日): 2009年10月29日
要約:
【課題】 EDSを利用した元素分布分析において、分析目的に見合った空間分解能で効率よくデータ処理を行ない、分析パラメータの表示を高速に行なう。【解決手段】 横6点、縦4点の格子状に円で囲んだ領域を指定する。円のかかる画素に対応するEDSのスペクトルを記憶部から全て読み出し、積算してひとつのスペクトルを作る。そのスペクトルに基づいてROI 積算値やフィッティングによる定量補正計算等のデータ処理を行ない、求められたX線強度や組成情報等の分析パラメータの面分布を表示する。【選択図】図8
請求項(抜粋):
試料表面に電子線を照射して発生するX線を半導体検出器により検出し、該試料の分析を行なうためのX線分光器を有するX線分析装置であって、
試料表面の分析領域が電子線により走査されるように電子線と試料とを二次元で相対的に移動する走査手段と、
前記半導体検出器によって検出されるX線量子をマルチチャンネルアナライザによりエネルギー分別しX線スペクトルを得る計測手段と、
前記計測手段により得られる前記X線スペクトルを、電子線が分析領域内の各単位区画に照射される毎に一定時間計測し、得られたX線スペクトルを前記単位区画毎に記憶するX線データ記憶手段と、
前記半導体検出器によって得られるX線スペクトルをデータ処理して分析パラメータを求めるデータ処理手段と、
前記データ処理手段により求めた分析パラメータの分布を画像表示するX線データ表示手段とを有するX線分析装置において、
前記分析領域中の任意領域を任意の数だけ指定する領域指定手段と、
前記領域指定手段により指定された各任意領域に含まれる単位区画に対応するX線スペクトルを前記記憶手段から読み出し積算して任意領域毎の積算X線スペクトルを得る積算手段とを備え、
前記積算手段によって得られた前記積算X線スペクトルを前記データ処理手段によりデータ処理して分析パラメータを求め、該分析パラメータの分布を表示するようにしたことを特徴とするX線分析装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (14件):
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001CA01
, 2G001EA01
, 2G001EA03
, 2G001FA06
, 2G001GA06
, 2G001HA05
, 2G001HA07
, 2G001HA13
, 2G001HA20
, 2G001KA01
, 2G001PA07
, 2G001PA11
引用特許:
出願人引用 (2件)
審査官引用 (6件)
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特開昭63-259949
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X線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-213204
出願人:日本電子株式会社, 日本電子エンジニアリング株式会社
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電子線分析装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-378197
出願人:株式会社島津製作所
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マッピングデータの解析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-361888
出願人:株式会社村田製作所
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電子線分析方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-280892
出願人:株式会社日立製作所
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特開昭63-259949
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