光学薄膜およびその製造方法、及び光学薄膜による光学素子、光学系、該光学系を備える撮像装置、記録装置、露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344544
公開番号（公開出願番号）：特開2003-149404
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】高屈折率を有する薄膜材料と低屈折率を有する薄膜材料を積層して光学薄膜を形成するに際に、薄膜全体の応力のバランスを図り、薄膜の割れや剥離のない、耐久性の優れた光学薄膜およびその製造方法、該光学薄膜による光学素子、光学系、該光学系を備える撮像装置、記録装置、露光装置を提供する。【解決手段】高屈折率を有する薄膜材料と低屈折率を有する薄膜材料を、それぞれ1層以上組み合わせて積層した光学薄膜において、これら薄膜材料の応力の向きが互いに逆になるように組み合わせて積層する。

請求項（抜粋）：

高屈折率を有する薄膜材料と低屈折率を有する薄膜材料を、それぞれ1層以上組み合わせて積層した光学薄膜において、これら薄膜材料の応力の向きが互いに逆になるように組み合わせて積層したことを特徴とする光学薄膜。

IPC (8件)：

G02B 1/11 , C03C 17/34 , C23C 14/06 , G02B 5/08 , G02B 5/28 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 503 , H01L 21/027

FI (9件)：

C03C 17/34 Z , C23C 14/06 P , G02B 5/08 A , G02B 5/08 C , G02B 5/28 , G03F 7/20 501 , G03F 7/20 503 , G02B 1/10 A , H01L 21/30 515 D

Fターム (34件)：

2H042DA08 , 2H042DB02 , 2H042DB14 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 2H048GA04 , 2H048GA13 , 2H048GA27 , 2H048GA35 , 2H048GA60 , 2H097AA03 , 2H097CA15 , 2H097LA17 , 2K009AA02 , 2K009BB01 , 2K009CC06 , 2K009DD03 , 2K009DD09 , 4G059AA11 , 4G059AB11 , 4G059AC04 , 4G059GA01 , 4G059GA04 , 4G059GA12 , 4K029AA08 , 4K029BA42 , 4K029BB02 , 4K029BC08 , 4K029BD00 , 4K029CA01 , 4K029DB05 , 4K029DB14 , 5F046CB12 , 5F046CB25

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-127601
多層光学薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-053028 出願人：キヤノン株式会社
ノルボルネン系樹脂成形品およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-362664 出願人：ミノルタ株式会社

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