特許
J-GLOBAL ID：200903029524486656

走査電子顕微鏡装置における機差管理システムおよびその方法

発明者：
大▲崎▼ 真由香

大▲崎▼ 真由香 について

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宍戸 千絵

宍戸 千絵 について

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川田 洋揮

川田 洋揮 について

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前田 達哉

前田 達哉 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-312316
公開番号（公開出願番号）：特開2007-122995
出願日： 2005年10月27日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：
【課題】機差の発生要因を簡便に推定し、この推定結果を元に走査電子顕微鏡装置を較正することで、複数台の装置間における計測寸法差を低減させ、より高精度な配線パターンの寸法管理を可能とする機差管理装置を提供することにある。【解決手段】走査電子顕微鏡装置において、装置間での機差や経時変化による機差を管理するシステム及びその方法であって、標準ウエハを撮像して得られる2次電子画像データを基に装置間や経時変化による機差を計測し、ほぼ同時に各種装置状態を示す指標値を計測する計測手段10、301a、301b;18、301aと、該計測手段によって計測された前記機差と前記各種装置状態を示す指標値との関係を分析して機差発生要因を推定する機差要因分析部301c、301eと、該機差要因分析部で推定された機差発生要因を表示して出力する出力手段302とを備えたことを特徴とする。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
パターンの寸法計測を目的とする走査電子顕微鏡装置において、複数台の該装置間での計測寸法差である機差を管理するためのシステムであって、 前記各装置から標準ウエハを撮像して得られる2次電子画像データを基に装置間での機差を定期的に計測し、ほぼ同時に各種装置状態を示す指標値を計測する計測手段と、 該計測手段によって装置間において計測された前記機差と前記各種装置状態を示す指標値との関係を分析して機差発生要因を推定する機差要因分析部と、 該機差要因分析部で推定された機差発生要因を表示して出力する出力手段とを備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡装置における機差管理システム。
IPC (4件)：
H01J 37/24 ,  H01L 21/66 ,  G01B 15/00 ,  H01J 37/28
FI (4件)：
H01J37/24 ,  H01L21/66 J ,  G01B15/00 K ,  H01J37/28 B
Fターム (23件)：
2F067AA21 ,  2F067AA25 ,  2F067BB12 ,  2F067CC17 ,  2F067FF14 ,  2F067FF18 ,  2F067GG09 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR07 ,  2F067RR12 ,  2F067RR29 ,  2F067RR30 ,  2F067SS01 ,  2F067SS13 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB20 ,  5C033UU10
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 走査型電子顕微鏡
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-084799   出願人：三菱電機株式会社
審査官引用 (4件)
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