特許
J-GLOBAL ID：200903029599151803

成膜装置

発明者：
岩田 輝夫

岩田 輝夫 について

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網倉 学

網倉 学 について

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二村 宗久

二村 宗久 について

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高橋 毅

高橋 毅 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 三枝 弘明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-035527
公開番号（公開出願番号）：特開2005-228889
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：
【課題】 液状原料の気化状態若しくは供給状態を安定化させることによりパーティクルの発生を抑制することのできる成膜装置の構成を提供する。【解決手段】 本発明の成膜装置100は、液状原料LMを供給する原料供給系110と、液状原料を気化して原料ガスを生成する気化器120と、気化器から供給される原料ガスを導入して成膜を行う成膜室132とを有し、気化器は、液状原料を噴霧する噴霧ノズル121を備えた噴霧手段と、噴霧手段によって霧化された液状原料を気化して原料ガスを生成するための気化室122と、気化室を加熱する加熱手段と、気化室から原料ガスを導出する導出口123とを有し、気化室は噴霧手段による噴霧方向に延長された形状を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液状原料を供給する原料供給系と、前記液状原料を気化して原料ガスを生成する気化器と、該気化器から供給される前記原料ガスを導入して成膜を行う成膜室とを有する成膜装置であって、 前記気化器は、前記液状原料を噴霧する噴霧ノズルを備えた噴霧手段と、該噴霧手段によって霧化された前記液状原料を気化して前記原料ガスを生成するための気化室と、該気化室を加熱する加熱手段と、前記気化室から前記原料ガスを導出する導出口とを有し、 前記気化室は前記噴霧手段による噴霧方向に延長された形状を有することを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
H01L21/31 ,  C23C16/448
FI (2件)：
H01L21/31 F ,  C23C16/448
Fターム (12件)：
4K030AA11 ,  4K030EA01 ,  4K030EA04 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AC07 ,  5F045AC08 ,  5F045BB08 ,  5F045EE02 ,  5F045EE05 ,  5F045EK01
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 液体原料用CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-100869   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
  • CVD装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-238315   出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
審査官引用 (7件)
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