成膜装置および成膜装置の供給ノズル吐出制御方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木下茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-246818
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087800
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】ポンプ及びチューブ管の破損を防止し、供給ノズルからの液だれ現象を抑える共に、成膜処理においてスループットを向上させた成膜装置および成膜装置の供給ノズル吐出制御方法を提供する。【解決手段】前記処理液を貯蔵する処理液槽74と、前記処理液槽から前記供給ノズル6まで処理液を送液する供給流路76と、前記処理液槽からの処理液を送出し、前記供給ノズル6から処理液を吐出させるポンプ8と、前記ポンプ8と供給ノズル6の間の供給流路中に設けられ、前記供給ノズル6からの処理液の吐出終了後、前記供給流路を止弁する第一のバルブ9と、前記第一のバルブ9と前記ポンプ8の間の供給流路中に設けられた、該供給流路の圧力を減圧する減圧手段10とを含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

被処理基板の上方を供給ノズルが走査し、該供給ノズルから処理液を吐出することによって、前記被処理基板の表面に液膜を形成する成膜装置において、前記処理液を貯蔵する処理液槽と、前記処理液槽から前記供給ノズルまで処理液を送液する供給流路と、前記処理液槽からの処理液を送出し、前記供給ノズルから処理液を吐出させるポンプと、前記ポンプと供給ノズルの間の供給流路中に設けられ、前記供給ノズルからの処理液の吐出終了後、前記供給流路を止弁する第一のバルブと、前記第一のバルブと前記ポンプの間の供給流路中に設けられた、該供給流路の圧力を減圧する減圧手段とを含むことを特徴とする成膜装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 , B05C11/10 , B05D3/00 , G03F7/16

FI (5件)：

H01L21/30 564Z , B05C11/10 , B05D3/00 B , B05D3/00 D , G03F7/16 501

Fターム (27件)：

2H025AB16 , 2H025EA04 , 4D075AC08 , 4D075AC84 , 4D075AC95 , 4D075BB93Z , 4D075DA08 , 4D075DC22 , 4D075EA05 , 4D075EA45 , 4F042AA07 , 4F042BA06 , 4F042CA09 , 4F042CB02 , 4F042CB03 , 4F042CB08 , 4F042CB10 , 4F042CB20 , 4F042CC01 , 4F042CC07 , 4F042CC15 , 4F042CC30 , 4F042DF09 , 4F042EB18 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046JA27

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板処理液供給機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-315524 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-361967 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平2-159015

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