処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264165
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100891
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】処理ユニットの追加の自由度が高く、段階的に拡張が可能な処理装置を提供すること、および、必要タクトに対してユニット数を最適化しやすく、かつ設置面積を小さくすることができる処理装置を提供すること。【解決手段】基板Sに対してレジスト塗布、露光、および露光後の現像を行う処理装置であって、基板Sを搬送する主搬送ラインLと、レジスト塗布処理ユニット221を複数配置してなる塗布処理ブロック22と、塗布されたレジストに対して所定パターンに露光する露光ユニット231を複数配置してなる露光ブロック23と、露光後の現像を行う現像処理ユニット241を複数配置してなる現像処理ブロック24と、主搬送ラインLと各ブロックとの間で基板Sの受け渡しを行う受け渡しポート35a,35b,36a,36b,37a,37b,38a,38bとを具備する。

請求項（抜粋）：

被処理体に対して複数の処理を施すための処理装置であって、被処理体を搬送する主搬送ラインと、前記主搬送ラインに連結された、被処理体に対して同一の処理を行う処理ユニットを複数配置可能な複数の処理ブロックと、前記主搬送ラインと前記各処理ブロックとの間で被処理体の受け渡しを行う受け渡しポートとを有することを特徴とする処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B23Q 41/04 , G02F 1/13 101

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B23Q 41/04 , G02F 1/13 101

Fターム (17件)：

2H088FA17 , 2H088FA18 , 2H088FA21 , 2H088FA30 , 2H088MA20 , 3C042RA27 , 3C042RL11 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA17 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031FA21 , 5F031MA23 , 5F031MA26 , 5F031MA27

引用特許：

出願人引用 (7件)

基板処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-314286 出願人：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社
ハンドリングシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-274720 出願人：安藤電気株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049268 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (5件)

基板処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-314286 出願人：キヤノン販売株式会社, キヤノン株式会社
ハンドリングシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-274720 出願人：安藤電気株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-049268 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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