特許
J-GLOBAL ID：200903092255197930

処理装置の制御方法及び処理装置

発明者：
西島 雄一

西島 雄一 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323405
公開番号（公開出願番号）：特開平10-149977
出願日： 1996年11月19日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの処理前後において、可動部材の所定の動作が確認できなかった場合に自動的にリ・トライさせるようにして、システム全体を停止させるような過剰な措置をとらずに、ウエハの不良発生を抑える制御装置及び制御方法を提供する。【解決手段】 加熱処理装置内8におけるウエハWの処理前後において、規定時間内に支持ピン26の上昇降動作がピンアップセンサー29によって検出されなかった場合に、ピンシリンダ27に対して支持ピン26の下降動作の実行をコントローラ31からピンシリンダ27に命令する。次に、ピンダウンセンサー30によって支持ピン26の下降動作を検出した後、ピンシリンダ27に対して再度支持ピン26の上昇動作の実行を命令する。
請求項（抜粋）：
処理容器に設けられた可動部材の所定の動作の後に、当該処理容器内で被処理基板に対して所定の処理を行うように構成された処理装置において、規定時間内に前記所定の動作の確認ができなかった場合には、前記可動部材の駆動系に対して前記所定の動作とは逆の動作を行うように命令し、当該逆の動作を確認した後、前記駆動系に対して再度所定の動作を行うように命令することを特徴とする、処理装置の制御方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/68 A ,  H01L 21/30 502 J
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 基板移載方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-341895   出願人：国際電気株式会社
  • ウエーハ移載方式
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-321408   出願人：国際電気株式会社
  • 特開平2-170520
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