特許

J-GLOBAL ID：200903029958241660

パターン形成方法、カラーフィルタ及び液晶表示装置

発明者： 芹澤 慎一郎 ,  角 克人 ,  佐藤 守正
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-289309
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101742
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】 良好な形状のパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】 基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層に対し、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査して露光し2次元画像の形成を行うパターン露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、を少なくとも経て、カラーフィルター部材のパターンを形成するパターン形成方法であって、前記感光性樹脂層のγが1〜15であり、前記パターン露光に用いられる露光装置の消光比が10%以下であることを特徴とするパターン形成方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基板上に感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、前記感光性樹脂層に対し、画像データに基づいて光を変調しながら相対走査して露光し2次元画像の形成を行うパターン露光工程と、露光された前記感光性樹脂層を現像する現像工程と、を少なくとも経て、カラーフィルター部材のパターンを形成するパターン形成方法であって、 前記感光性樹脂層のγが1〜15であり、 前記パターン露光に用いられる露光装置の消光比が10%以下であることを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 ,  G03F 7/004 ,  G02F 1/133

FI (4件)：

G02B5/20 101 ,  G03F7/004 505 ,  G03F7/004 502 ,  G02F1/1335 505

Fターム (22件)：

2H025AA03 ,  2H025AB13 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB00 ,  2H025CC01 ,  2H025FA03 ,  2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB07 ,  2H048BB10 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02Y ,  2H091FC10 ,  2H091FC26 ,  2H091LA16

引用特許：

出願人引用 (2件)

• レーザ繰り返し率増倍器
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-566933   出願人：オルボテックリミテッド
• 画像記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-011816   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (3件)

• パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-058201   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-140760   出願人：富士写真フイルム株式会社
• カラ-フィルタの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-328432   出願人：日立化成工業株式会社