液膜形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-255461
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168021
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】液体滴下ノズルから液体を滴下しつつ、該ノズルと被処理基板とを相対的に移動させることによって、該基板上に液膜を形成する液膜形成方法において、処理時間の短縮化を図ると共に、液体の使用量を削減すること。【解決手段】液体滴下ノズル12と被処理基板11との相対的な移動は、液体滴下ノズル12が被処理基板11の一端側から基板11上を経て基板11の他端側に抜ける列方向の直線的な移動と、基板11外での行方向の移動で構成され、前記列方向の移動距離は、基板11上での滴下長Lと加減速区間を加えた距離の加算とであって、前記列方向の該基板上の移動速度vが、前記滴下長Lと前記加減速度aの絶対値との積の平方根に応じで定められること。

請求項（抜粋）：

被処理基板に対して、該基板上で一定量広がるように調整された液体を滴下部の滴下ノズルから滴下し、滴下された該液体を該基板上に留めつつ、前記滴下部と前記被処理基板とを相対的に移動させ、前記被処理基板上に液膜を形成する液膜形成方法であって、前記滴下部と前記被処理基板との相対的な移動は、前記滴下部が前記被処理基板の一端側から該基板上を経て該基板の他端側に抜ける列方向の直線的な移動と、該基板外での行方向の移動とで構成され、前記列方向の移動距離は、該基板上での滴下長Lと加減速区間を加えた距離との加算であって、前記列方向の該基板上の移動速度vは、前記滴下長Lと前記加減速区間での加減速度aの絶対値との積の平方根に応じて定めることを特徴とする液膜形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B05C 11/00 , B05D 1/30 , G03F 7/16

FI (4件)：

B05C 11/00 , B05D 1/30 , G03F 7/16 , H01L 21/30 564 D

Fターム (26件)：

2H025AA00 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025EA04 , 4D075AC11 , 4D075AC88 , 4D075AC91 , 4D075AC92 , 4D075AC93 , 4D075AC94 , 4D075CA23 , 4D075CB02 , 4D075DA08 , 4D075DC22 , 4D075EC35 , 4D075EC54 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042AA08 , 4F042BA04 , 4F042BA08 , 4F042BA12 , 4F042BA25 , 5F046JA01 , 5F046JA02

引用特許：

審査官引用 (8件)

塗布処理方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-102438 出願人：キヤノン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-156183 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
レジスト堆積方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-214426 出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション

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