特許
J-GLOBAL ID：200903030240482977
電子線描画装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-149045
公開番号（公開出願番号）：特開平11-340130
出願日： 1998年05月29日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 近接効果補正用の精度の良い露光量マップを短時間で作成する。【解決手段】 ショット形状をメッシュごとに分割して加算することで、精度の良好な露光量マップを作成する。具体的には、(1)露光量マップのメッシュ位置とショットの位置、形状から描画ショットの境界を判定し分割する機能と、(2)分割されたショットの面積値を計算し後段に設けられた複数のメモリに、隣接するアドレスでそれぞれ同時に面積値を累積加算処理する機能の2つの機能により解決を図る。
請求項（抜粋）：
電子線描画領域を区分するメッシュと電子線描画ショットとの位置関係に基づいて各メッシュに含まれるショット面積から面積密度を計算して露光量マップを作成する露光量マップ作成手段と、前記露光量マップを参照して各ショットの露光量を補正する近接効果補正手段とを備え、前記近接効果補正手段によって補正された露光量でショットを露光する電子線描画装置において、前記露光量マップ作成手段は、ショットが複数のメッシュにまたがるものであるか否かを判定する判定手段を備えることを特徴とする電子線描画装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/153
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 E
, G03F 7/20 504
, H01J 37/153 Z
, H01J 37/305 B
