表面処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-040192
公開番号（公開出願番号）：特開2005-046832
出願日： 2004年02月17日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】ローラコンベアの下側の雰囲気が処理空間へ侵入するのを防止可能な表面処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ吹出し手段20にて処理ガスを電極33,34間に通しプラズマ化して下方へ吹出すとともに、被処理物Wをローラコンベア10にて吹出し手段20の下側を横切るように送る。不活性ガスが溜められるべき容器50を、吹出し手段20の直下のローラコンベア10を収容するようにして配置する。この不活性ガス溜め容器50の上板すなわちカバー板51を、被処理物Wの送られるべき高さより下に僅かに離して配置するとともに、該板51にローラ通孔51dを形成し、これにコンベアのローラ12の上縁部を通す。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

処理ガスを下方へ吹出す吹出し手段と、被処理物を、前記吹出し手段の下側を横切るように送るローラコンベアと、前記吹出し手段の直下のローラコンベアを、該コンベアのローラの上縁部を露出させるようにして覆うカバー手段と、を備えたことを特徴とする表面処理装置。

IPC (5件)：

B08B7/00 , B08B1/02 , C23F4/00 , H01L21/3065 , H05H1/24

FI (5件)：

B08B7/00 , B08B1/02 , C23F4/00 A , H05H1/24 , H01L21/302 101E

Fターム (27件)：

3B116AA02 , 3B116AA03 , 3B116AB14 , 3B116BB22 , 3B116BC01 , 3B116CD31 , 4K030CA06 , 4K030CA17 , 4K030DA06 , 4K030EA06 , 4K030FA01 , 4K030GA12 , 4K030KA10 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM02 , 4K057DM35 , 4K057DM36 , 4K057DM37 , 4K057DM40 , 4K057DN01 , 5F004AA16 , 5F004BA03 , 5F004BA20 , 5F004BB28 , 5F004BD01 , 5F004BD04

引用特許：

出願人引用 (1件)

放電プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-366607 出願人：積水化学工業株式会社

審査官引用 (6件)

ガラス基板の冷却装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-215559 出願人：東レエンジニアリング株式会社
特開平5-401847
特表平5-503503

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