特許
J-GLOBAL ID:200903031813750609
GaN系電界効果トランジスタ
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松下 亮
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-063644
公開番号(公開出願番号):特開2009-218528
出願日: 2008年03月13日
公開日(公表日): 2009年09月24日
要約:
【課題】コストの低減と回路の小型化を図ることができるGaN系電界効果トランジスタを提供する。【解決手段】デプレッション型GaN系電界効果トランジスタ10は、ゲート電極25と直列に接続されたコンデンサ40を備える。このコンデンサ40は、ゲート電極25の上に形成された絶縁膜29とこの絶縁膜29上に形成された第2のゲート電極41とで構成される。また、ショットキー電極であるゲート電極25とオーミック電極であるソース電極26とでダイオード(ショットキーダイオード)D1が構成される。コンデンサ40とダイオードD1を有する電界効果トランジスタ10を駆動する回路には、外付けのコンデンサが不要になるので、コストの低減と駆動回路の小型化が可能になる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
GaN系半導体からなる第1の半導体層と、
前記第1の半導体層上に形成された前記第1の半導体層よりもバンドギャップエネルギーの大きいGaN系半導体からなる第2の半導体層と、
前記第2の半導体層上に形成されたソース電極、第1のゲート電極、およびドレイン電極と、
少なくとも前記ゲート電極の上に形成された絶縁膜と該絶縁膜上に形成された第2のゲート電極と、を備えることを特徴とするGaN系電界効果トランジスタ。
IPC (11件):
H01L 21/823
, H01L 27/06
, H01L 27/095
, H01L 21/338
, H01L 29/778
, H01L 29/812
, H01L 21/822
, H01L 27/04
, H01L 21/28
, H01L 29/47
, H01L 29/872
FI (6件):
H01L27/06 F
, H01L29/80 E
, H01L29/80 H
, H01L27/04 C
, H01L21/28 301B
, H01L29/48 D
Fターム (42件):
4M104AA04
, 4M104AA07
, 4M104BB01
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB07
, 4M104BB09
, 4M104CC03
, 4M104EE05
, 4M104EE06
, 4M104EE14
, 4M104EE16
, 4M104EE17
, 4M104FF13
, 4M104GG12
, 5F038AC05
, 5F038AC07
, 5F038AC15
, 5F038AC16
, 5F038EZ01
, 5F038EZ02
, 5F038EZ20
, 5F102GA14
, 5F102GA16
, 5F102GB01
, 5F102GC01
, 5F102GD01
, 5F102GJ02
, 5F102GJ03
, 5F102GJ04
, 5F102GJ10
, 5F102GK04
, 5F102GL04
, 5F102GM04
, 5F102GQ01
, 5F102GS01
, 5F102GT03
, 5F102GV05
, 5F102GV06
, 5F102GV07
, 5F102GV08
, 5F102GV09
引用特許:
審査官引用 (9件)
-
化合物半導体集積回路装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-134918
出願人:株式会社日立製作所
-
特公平5-072764
-
電界効果トランジスタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-139656
出願人:ローム株式会社
全件表示
前のページに戻る