特許

J-GLOBAL ID：200903032128925940

ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法

発明者： 廣瀬 邦彦 ,  青山 武嗣 ,  後藤 寿一 ,  山本 新樹
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
代理人 (3件)： 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  林 雅仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-263357
公開番号（公開出願番号）：特開2008-081444
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】本発明は、反応器中の気相部におけるガス組成を所定の範囲に制御することにより、安全性を保持しつつ、高生産性で高純度のDAMを製造する方法を提供する。【解決手段】反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、塩化メチル及び水を供給することにより、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートの4級塩を製造する方法であって、該反応器内の気相部における酸素の濃度([O2])を3〜12体積%、塩化メチルの濃度([MC])を22〜80体積%、及び塩化メチルの濃度に対する酸素の濃度の比([O2]/[MC])を0.05〜0.5に制御して反応を行うことを特徴とするジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

反応器に、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、塩化メチル及び水を供給することにより、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩を製造する方法であって、 該反応器内の気相部における酸素の濃度([O2])を3〜12体積%、塩化メチルの濃度([MC])を22〜80体積%、及び塩化メチルの濃度に対する酸素の濃度の比([O2]/[MC])を0.05〜0.5に制御して反応を行うことを特徴とするジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法。

IPC (2件)：

C07C 213/08 ,  C07C 219/08

FI (2件)：

C07C213/08 ,  C07C219/08

Fターム (14件)：

4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BB31 ,  4H006BB60 ,  4H006BB61 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC13 ,  4H006BC14 ,  4H006BC33 ,  4H006BD20 ,  4H006BD60 ,  4H006BD70 ,  4H006BD84

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-217649号公報
  
• 不飽和第4級アンモニウム塩の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-094153   出願人：株式会社興人
• ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-155861   出願人：東亞合成株式会社
• ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-320318   出願人：東亞合成株式会社

審査官引用 (5件)

• ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-320318   出願人：東亞合成株式会社
• 不飽和第四級アンモニウム塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-323972   出願人：三菱レイヨン株式会社
• 不飽和第四級アンモニウム塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-004595   出願人：三井東圧化学株式会社
• ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート4級塩の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-163469   出願人：東亞合成株式会社
• 特開平4-095053
  

引用文献：

審査官引用 (2件)

• 工業反応装置, 19601030, 第39-41頁
• 工業反応装置-選定・設計・実例-, 19840225, 第208-211頁