特許
J-GLOBAL ID:200903032241960280

赤外顕微分光分析方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前川 幾治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-144078
公開番号(公開出願番号):特開平8-313433
出願日: 1995年05月17日
公開日(公表日): 1996年11月29日
要約:
【要約】【目的】赤外顕微分光分析では2〜15μm程度の波長域の光を用いるので、光の回折限界により空間分解能は高々10μm程度である。この空間分解能を回折限界を超えるミクロンないしサブミクロンのオーダにできる赤外顕微分光分析方法及び装置を実現する。【構成】被検体の表面近傍にエバネッセント波の場を形成し、このエバネッセント波の場の中に幅が微小なスリット状開口(21)を臨ませ、このスリット状開口を経由する光を検出する。
請求項(抜粋):
赤外域の分光光を用いて被検体の表面近傍にエバネッセント波の場を形成し、このエバネッセント波の場の中に幅が微小なスリット状開口を臨ませ、このスリット状開口からの伝搬光またはスリット状開口に対向する被検体の微小領域からの伝搬光を集光し、集光した光を光電変換して信号を得、この信号に基づいてスペクトル分布を求める、ことを特徴とする赤外顕微分光分析方法。
IPC (5件):
G01N 21/35 ,  G01J 3/04 ,  G01N 21/27 ,  G02B 21/00 ,  G02B 27/56
FI (5件):
G01N 21/35 Z ,  G01J 3/04 ,  G01N 21/27 E ,  G02B 21/00 ,  G02B 27/56
引用特許:
出願人引用 (8件)
  • 全反射測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-032778   出願人:日本分光株式会社
  • 面内分布測定方法及び装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-043946   出願人:株式会社日立製作所
  • 赤外顕微測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-269691   出願人:河田聡
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審査官引用 (11件)
  • 走査型近接場顕微鏡
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-095911   出願人:株式会社ニコン
  • 全反射測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-032778   出願人:日本分光株式会社
  • 特開平1-248039
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