特許
J-GLOBAL ID：200903032398572232

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
水谷 英夫

水谷 英夫 について

, 
馬込 伸貴

馬込 伸貴 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393858
公開番号（公開出願番号）：特開2004-207696
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】 投影光学系と基板との間に液体を満たして露光処理する際、液体中の気泡に起因するパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置は、投影光学系と基板Pとの間の少なくとも一部を液体で満たし、投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板P上に投影することによって基板Pを露光するものであって、投影光学系と基板Pとの間の液体中の気泡を検出する気泡検出器20を備えている。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
投影光学系と基板との間の少なくとも一部を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介してパターンの像を基板上に投影することによって、前記基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系と前記基板との間の液体中の気泡を検出する気泡検出器を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G01N21/85 ,  G03F7/20
FI (4件)：
H01L21/30 515D ,  G01N21/85 B ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516Z
Fターム (23件)：
2G051AA48 ,  2G051AB02 ,  2G051AB06 ,  2G051AB20 ,  2G051BA20 ,  2G051BB05 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051EA14 ,  2G059AA05 ,  2G059BB04 ,  2G059CC20 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059GG10 ,  2G059KK01 ,  2G059MM10 ,  5F046AA17 ,  5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DB14
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM