パターン形成方法並びに電子線放出素子及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：井上一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104965
公開番号（公開出願番号）：特開2000-299082
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】電子ビーム描画技術を容易に適用することができるパターン形成方法並びにその方法に使用される電子線放出素子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部18を有する電子線放出素子10を用意する工程と、電圧を印加して錐体部18から電子線19を放出させて、電子線感応性のレジスト層22を暴露する工程と、レジスト層22の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。

請求項（抜粋）：

表面がダイヤモンド層からなる少なくとも一つの錐体部を有する電子線放出素子を用意する工程と、電圧を印加して前記錐体部から電子線を放出させて、電子線感応性のレジストを暴露する工程と、前記レジストの一部を除去してパターニングする工程と、を含むパターン形成方法。

IPC (6件)：

H01J 37/305 , G03F 7/20 504 , H01J 1/304 , H01J 9/02 , H01J 37/073 , H01L 21/027

FI (6件)：

H01J 37/305 B , G03F 7/20 504 , H01J 1/30 F , H01J 9/02 B , H01J 37/073 , H01L 21/30 541 B

Fターム (12件)：

2H097CA01 , 2H097CA16 , 2H097FA02 , 2H097FA03 , 2H097LA10 , 5C030CC01 , 5C034BB01 , 5C034BB06 , 5C034BB10 , 5F056AA03 , 5F056CB02 , 5F056EA02

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平4-288815
多重電子ビーム照射装置および照射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-354236 出願人：工業技術院長
タグ付けされたMRイメージにおける心臓壁の動きを再生するためのハイブリッドモデルおよび方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-253266 出願人：シーメンスコーポレイトリサーチインコーポレイテツド

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