特許
J-GLOBAL ID：200903032749362248

プラズマ処理装置

発明者：
中野 孝紀

中野 孝紀 について

, 
三宮 仁

三宮 仁 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-173848
公開番号（公開出願番号）：特開2008-004814
出願日： 2006年06月23日
公開日（公表日）： 2008年01月10日
要約：
【課題】同一のプラズマ反応室内において、少なくとも2のプラズマ処理工程を行う場合、その装置構成によりプラズマ処理の条件が制限される工程においてもより多様なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】少なくとも2のプラズマ処理工程を同一のプラズマ反応室内で行う場合に、各工程においてプラズマ処理用の電力としてCW交流電力またはパルス変調された交流電力を適宜選択する。これにより、装置構成によりプラズマ処理の条件が制限される工程においてもより多様なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
プラズマ反応室と、 前記プラズマ反応室内に設置されたカソード・アノード電極対と、 CW交流電力およびパルス変調された交流電力を切換えて前記カソード電極に供給する電力供給手段と、 を備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/515 ,  H05H 1/46 ,  C23C 16/509
FI (5件)：
H01L21/205 ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/515 ,  H05H1/46 M ,  C23C16/509
Fターム (29件)：
4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030AA20 ,  4K030BA30 ,  4K030BB12 ,  4K030FA01 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030JA20 ,  4K030LA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BA09 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AC19 ,  5F045AE21 ,  5F045CA13 ,  5F045DA52 ,  5F045DP20 ,  5F045EH01 ,  5F045EH14 ,  5F045EH20
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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