特許
J-GLOBAL ID：200903073047851729

薄膜形成装置

発明者：
福田 和浩

福田 和浩 について

, 
高山 淳

高山 淳 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 荒船 博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-077873
公開番号（公開出願番号）：特開2004-285388
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】価且つ安全な放電ガスを用いても、安定した放電状態を維持した高密度プラズマを達成することができ、良質な薄膜を長時間製膜可能な薄膜形成装置を提供し、良質で高性能な薄膜を安価に提供する。【解決手段】大気圧プラズマ放電処理装置10を用いる薄膜形成装置において、ロール回転電極(第1電極)11と角筒型固定電極郡(第2電極)12は相対的に対向し移動する関係を有し、ロール回転電極11から印加する高周波電界強度は、角筒型固定電極郡12から印加される高周波電界強度よりも高く、前記2種類の電界を重畳して大気圧プラズマ放電させ、ロールで回転電極11に容量結合25aとLC共振部25bから構成される第3フィルタ25を設置する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
大気圧もしくはその近傍の圧力下において互いに相対向し相対的に平行移動可能に設けられた第1電極と第2電極とで構成される放電空間に薄膜形成ガスを含有するガスを供給し、前記放電空間に互いに周波数及び電界強度が異なる第1および第2の高周波電界を重畳して印加することにより前記ガスを励起し、この励起したガスに基材を晒すことにより当該基材上に薄膜を形成する薄膜形成装置において、 前記第1又は第2電極のうち、いずれか高電界強度の電極側に、特定の周波電流を通過させて接地するフィルタを電気的に接続したことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (5件)：
C23C16/505 ,  B01J19/08 ,  H01L21/205 ,  H05H1/24 ,  H05H1/46
FI (5件)：
C23C16/505 ,  B01J19/08 H ,  H01L21/205 ,  H05H1/24 ,  H05H1/46 R
Fターム (42件)：
4G075AA24 ,  4G075AA29 ,  4G075AA61 ,  4G075AA63 ,  4G075BC01 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA15 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA03 ,  4G075DA12 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EC09 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED09 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030JA13 ,  4K030JA14 ,  4K030JA18 ,  4K030KA14 ,  4K030KA45 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AB04 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AE29 ,  5F045CA05 ,  5F045DQ16 ,  5F045EH09 ,  5F045EH13
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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