特許
J-GLOBAL ID：200903032792478799
金属パターン及び有機電子デバイスとその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-055090
公開番号（公開出願番号）：特開2007-188854
出願日： 2006年03月01日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】メタルマスクの作成、オーバーハング状ライン隔壁の形成、粘着フィルムによる剥離、などの工程に伴う種々の制約に捕われることなく、自由な形状にかつ高精度に有機デバイスの電極パターンを形成する。【解決手段】有機電子材料からなる層に電圧を印加して機能させる有機電子デバイスを製造する方法において、置換基を有しても良い1,2-ジアリールエテンを含む下地層を形成し、この下地層の1,2-ジアリールエテンを所定パターン状に異性化反応させ、次いでこの下地層の上に電極材料を付与して、この所定パターンに対応した電極パターンを形成する。1,2-ジアリールエテンの異性化反応により、電極材料であるマグネシウム等の付着性に変化が生じ、また、異性化反応を起こすことで、当該部分の開環体分子と閉環体分子との比率がある値を超えた時に、マグネシウムの付着性と非不着性とに顕著な差が生じ、パターニングが可能になる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板上に金属パターンを製造する方法において、該基板上に、光により物性変化する材料(以下「光感応性材料」と称す。)を含む層を形成する工程と、該光感応性材料を含む層に光照射することにより該光感応性材料の物性変化のパターンを形成する工程と、該パターン上に金属を積層して金属パターンを形成する工程とを含むことを特徴とする金属パターンの製造方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/22
, H05B 33/26
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/22 Z
, H05B33/26 Z
3K007AB18
, 3K007CC00
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA01
出願人引用 (2件)
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
