特許
J-GLOBAL ID：200903033719709606

多段階露光による三次元構造体製造方法

発明者：
梅木 和博

梅木 和博 について

, 
佐藤 正明

佐藤 正明 について


出願人/特許権者：
リコー光学株式会社

リコー光学株式会社 について


代理人 (1件)： 野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-358902
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162747
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：
【要約】【課題】 感光性材料除去量を変化させうる領域を広げる。【解決手段】 露光の第一段階においては設計時の露光量よりもCEL層を除去するための光量分だけ少ない光量で露光する(A)。この段階で現像すれば、レジスト12は表面側から線14で示される部分までしか除去されない。露光の第二段階以降においては第一段階で少なく露光した光量分を追加で露光する(B)。全体としてレジスト除去領域が線14aで示されるところまで進み、現像後のレジストパターンは14bで示されたものとなる(C)。
請求項（抜粋）：
基板上に感光性材料を塗布し、目的とする表面形状に対応して透過率が段階的に変化する2次元的な透過率分布を持った濃度分布マスクを用いて前記感光性材料を露光し現像して前記基板上に三次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを基板に彫り写すことにより三次元構造の表面形状をもつ物品を製造する方法において、前記露光はマスクを変えた複数の露光工程からなる多段階露光とし、かつそのうちの1つの露光工程として感光性材料のCEL(コントラスト・エンハンスト・リソグラフィー)層を除去するための光量により感光性材料層を照射する工程を含んでいることを特徴とする三次元構造体製造方法。
IPC (6件)：
G03F 7/20 501 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/095 501
FI (6件)：
G03F 7/20 501 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 3/08 ,  G03F 1/08 Z ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/095 501
Fターム (16件)：
2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA40 ,  2H025FA04 ,  2H095BB01 ,  2H095BB31 ,  2H097AA12 ,  2H097BB01 ,  2H097JA02 ,  2H097LA17
引用特許：
審査官引用 (9件)
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