特許
J-GLOBAL ID：200903033976364369

改良されたグレーティング記入システム

発明者：
シーツ マーク

シーツ マーク について

, 
ポラディアン レオン

ポラディアン レオン について


出願人/特許権者：
ザ・ユニバーシティ・オブ・シドニー

ザ・ユニバーシティ・オブ・シドニー について


代理人 (1件)： 小林 正明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-556264
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519709
出願日： 1999年05月26日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】(a) 導波路上にグレーティング構造の初期部分を記入する工程;(b)初期部分の特性を試験して初期部分の一連のパラメーターを決定する工程;(c)パラメーターを利用して該グレーティング構造の引き続く記入部分の特性を変えてグレーティング構造の改良された形態を提供する工程;(d)工程(a)から(c)を繰り返して完全なグレーティング構造を提供する工程からなる完全なグレーティング構造を感光性導波路上に形成する方法。記入は導波路上の2つのコヒーレントビームの干渉から形成されるコヒーレンスパターンを利用して実施できる。特性は引き続く記入部分の強度あるいは位相を含み得る。試験は初期部分のスペクトル反射応答を決定することあるいは初期部分のスペクトル位相遅延を決定することを含んでもよい。
請求項（抜粋）：
次の各工程(a)〜(d)からなる感光性導波路上に完全なグレーティング構造を形成する方法:(a) 導波路上にグレーティングの初期部分を記入する工程、(b) 初期部分の光学特性を試験して、該初期部分の一連のパラメーターを決定する工程、(c) 該パラメーターを光学特性として利用して該グレーティング構造の引き続く記入部分の特性を変更し、グレーティング構造の改良された形態を提供する工程、(d) 該工程(a)〜(c)を繰り返して完全なグレーティング構造を提供する工程。
IPC (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10
FI (2件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/10 C
Fターム (7件)：
2H049AA34 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H049AA66 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84 ,  2H050AD00
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM