特許
J-GLOBAL ID：200903034089117590

基板処理装置および基板処理方法

発明者：
清瀬 浩巳

清瀬 浩巳 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-049755
公開番号（公開出願番号）：特開2009-206419
出願日： 2008年02月29日
公開日（公表日）： 2009年09月10日
要約：
【課題】リン酸水溶液のエッチング特性を長時間一定に維持することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液中には添加剤投入機構40からヘキサフルオロケイ酸水溶液(H2SiF6+H2O)を含む添加剤が逐次投入される。添加剤の逐次投入によってシリコン窒化膜のエッチングを促進するF-が適宜補充される。一方、添加剤の加水分解反応によって生じたシロキサンの濃度が設定値より大きいときには、循環ライン20から再生ライン30にリン酸水溶液を流入させる。再生ライン30に流入したリン酸水溶液からは再生装置31によってシロキサンが強制的に回収される。その結果、リン酸水溶液中のシロキサン濃度上昇が抑制され、シリコン窒化膜およびシリコン酸化膜の双方について初期のエッチングレートを維持することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置であって、 リン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽と、 前記浸漬処理槽のリン酸水溶液中にヘキサフルオロケイ酸を含む添加剤を投入する添加剤投入手段と、 前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液を再び前記浸漬処理槽に還流させる循環ラインと、 前記循環ラインから分岐され、前記循環ラインから流入したリン酸水溶液を前記循環ラインとは別経路にて前記浸漬処理槽に還流させる再生ラインと、 前記再生ラインの経路中に介挿され、前記再生ラインを流れるリン酸水溶液中に含まれるシロキサンを回収してリン酸水溶液を再生する再生機構と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/306
FI (2件)：
H01L21/306 J ,  H01L21/306 E
Fターム (7件)：
5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043DD23 ,  5F043EE02 ,  5F043EE21 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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