特許
J-GLOBAL ID:200903034343688145

磁気記憶装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-352784
公開番号(公開出願番号):特開2003-249630
出願日: 2002年12月04日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】誤書き込みを抑制するとともに、選択セルへの磁場を集中させる。【解決手段】半導体記憶装置は、第1の方向に延在する第1の配線13と、この第1の配線13の上方に配置された記憶素子18と、この記憶素子18上に、第1の方向と異なる第2の方向に延在する第2の配線20と、この第2の配線20の側面及び記憶素子18の側面に形成された磁気シールド層21とを具備する。
請求項(抜粋):
第1の方向に延在する第1の配線と、前記第1の配線の上方に配置された記憶素子と、前記記憶素子上に配置され、前記第1の方向と異なる第2の方向に延在する第2の配線と、前記第2の配線の側面及び前記記憶素子の側面に形成された第1の磁気シールド層とを具備することを特徴とする磁気記憶装置。
IPC (2件):
H01L 27/105 ,  H01L 43/08
FI (2件):
H01L 43/08 Z ,  H01L 27/10 447
Fターム (5件):
5F083FZ10 ,  5F083GA15 ,  5F083NA08 ,  5F083PR39 ,  5F083PR40
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特願平11-238377号公報
審査官引用 (5件)
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